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賦能“芯”未來 | 譜育科技攜自主創新產品亮相第二十一屆中國國際半導體博覽會
聚光 發布時間：2024-11-22 聚光 來源：微信公眾號 聚光 瀏覽量：13467



11月18日至20日，第二十一屆中國國際半導體博覽會（IC CHINA 2024）在北京·國家會議中心盛大召開。


作為中國半導體行業協會主辦的唯一展覽會，本屆展會以 “創芯使命?聚勢未來” 為主題，聚焦半導體產業鏈、供應鏈和超大規模應用市場，全面呈現半導體行業發展趨向與技術創新成果，匯聚全球行業資源。

來自半導體材料、設備、設計、制造、封測和下游應用等全產業鏈環節的550余家企業參展，涵蓋眾多國內外半導體龍頭企業。來自美國、日本、韓國、馬來西亞、巴西等國家的半導體行業組織也分享了當地的產業動態，并與中方代表展開深度交流。

聚光科技自主孵化子公司譜育科技應邀參展，攜EXPEC 7350系列三重四極桿電感耦合等離子體質譜儀（ICP-MS/MS）、GDM-2100 Series半導體氣體探測器等多款半導體領域的自主創新產品精彩亮相。展會現場，譜育科技通過實物展示與技術講解，生動詮釋了產品的核心技術優勢及廣泛應用，吸引了眾多專家、客戶、媒體及同行駐足交流。


面對半導體行業日益增長的檢測需求，聚光科技及譜育科技依托二十余年在質譜、光譜、色譜等前沿技術領域的深厚積累，積極推出高度定制化、系統自動化的半導體行業專用創新產品與解決方案，在半導體制程金屬污染檢測、半導體電子特氣泄漏檢測、潔凈室氣態分子污染物監測等應用領域，幫助客戶提升生產效率和產品質量，同時為國產科學儀器在高端檢測領域的創新發展注入強勁動力。


半導體制程金屬離子檢測
EXPEC 7350系列三重四極桿電感耦合等離子體質譜儀

作為“國家重大科學儀器設備開發專項”的重要成果，聚光科技自2013年發布首臺單四極桿ICP-MS以來，持續推動技術升級，成功掌握了多個質譜分析技術平臺，實現了高端質譜“國產替代”規模化與產業化。截至目前，7000系列ICP-MS累計下線超1000套，標志著質譜儀器在國產替代進程中取得了里程碑式突破。



EXPEC 7350系列三重四極桿電感耦合等離子體質譜儀（ICP-MS/MS）是公司基于十余年技術積累推出的重磅產品，專為半導體行業痕量元素分析量身打造，已獲國際半導體協會SEMI S2認證。

EXPEC 7350系列采用創新的MS/MS模式，有效提升干擾消除能力。結合三重四極桿設計、高速動態碰撞反應池、直角離子透鏡、垂直等離子體等多項核心技術，產品在檢測靈敏度和穩定性上表現卓越，廣泛應用于超純濕電子化學品、電子特氣及碳化硅片等領域，尤其在金屬離子痕量分析方面提供了可靠的解決方案。


完整的半導體分析配套：百級超凈實驗室

芯片制造對環境和檢測設備要求極為嚴苛，任何顆粒或雜質污染都可能導致元件失效，造成巨大損失。譜育科技針對半導體行業組建專業團隊，配備百級超凈實驗室，研發出EXPEC 7350系列整體解決方案。該系統可實現~0.1ppt級別的痕量元素檢測能力，可滿足Grade 5級別及以上超高純試劑中雜質檢測需求，性能指標達國際先進水平。通過針對超凈環境的精準監控及高純材料的質量檢測，為國產半導體行業的穩定生產與技術突破提供了強有力的技術支撐。


半導體行業應用領域

  • 硅、碳化硅、氮化鎵等晶圓的表面金屬及體金屬的多元素雜質的快速檢測；
  • 半導體實驗室分析以及生產制程中高純度濕電子化學品雜質元素檢測；
  • 光刻膠及其相關溶劑中超痕量雜質元素快速檢測；
  • 高純銅、鋁、鈦、鉭、鉬等高純濺射靶材中70種以上超痕量雜質元素快速檢測；
  • 高純三甲基鋁、四氯化鈦等復雜基質前驅體中超痕量雜質元素快速檢測；
  • 高純單晶硅、多晶硅表面金屬雜質和體金屬雜質元素快速檢測；
  • 高純電子特氣中超痕量雜質元素快速檢測。

典型應用案例：EXPEC 7350系列三重四極桿電感耦合等離子體質譜儀 助力半導體企業高效控制金屬污染

EXPEC 7350 系列已成功應用于多家大型半導體企業。其中一家專注于寬禁帶半導體材料（如碳化硅和氮化鎵）的研發與晶片制造，對痕量金屬污染的檢測精度和干擾控制有著嚴格的要求。EXPEC 7350 系列用于該企業襯底拋光片、外延片及高純試劑中的痕量金屬雜質檢測。


EXPEC 7350系列憑借垂直炬管設計和MS/MS模式，能夠高效應對高基質樣品的多原子離子干擾，提供高靈敏度和精準的分析結果。設備安裝調試后，其檢出限、穩定性、氧化物產率等性能指標全部通過驗收。經過半年使用，設備表現穩定，客戶對其性能及譜育科技的售后服務給予高度認可。


半導體電子特氣泄漏檢測
GDM-2100 Series半導體氣體探測器

GDM-2100 Series半導體氣體探測器憑借先進智能傳感器技術，可精準偵測40多種半導體特氣，如硅烷、磷烷、三氟化氮等，廣泛適用于半導體制造、光伏電池生產及實驗室等高要求場景。

設備采用通用化設計，兼容多種檢測原理，降低購置成本并提升適配性。內置核心處理器支持離線校準，即插即用，顯著簡化維護流程。多樣化供電與通訊方式，如24V直流供電和POE HUB供電，便于實時監控。彩色TFT顯示結合高亮LED和自定義顯示區域，信息直觀清晰，提升用戶體驗的同時優化安全與生產效率。
典型應用案例：GDM-2100 Series半導體用氣體探測器護航12英寸集成電路生產線安全運行

在國內某12英寸集成電路生產線建設項目中，GDM-2100 Series半導體氣體探測器發揮著重要作用，助力芯片工廠實現氣體泄漏精準偵測與智能預警，全面保障生產線的安全穩定運行。


該項目中，譜育科技提供了基于多種檢測技術原理的高性能氣體傳感器，包括電化學（EC）和非分散紅外（NDIR）等技術，共選用了30多種不同氣體類型的氣體探測器，覆蓋芯片制造全過程中的有毒有害氣體監測需求。

這些氣體探測器以其高靈敏度和穩定性，能夠實時監測氣體濃度，快速響應泄漏事件，為工廠構建全方位、多層次的氣體安全防護網。



潔凈室氣態分子污染物監測 
AMC 1000微污染氣體監測系統

AMC 1000微污染氣體監測系統通過分布式多點采樣器，可搭配國產先進分析儀器，實現對半導體潔凈室酸類（MA）、堿類（MB）、可凝聚物（MC）及揮發性有機物等的ppb級高精度監測，打破國外技術壟斷。

AMC 1000微污染氣體監測系統中的氣體分析系統采用多種國產高端分析儀器，集成國標認可的先進技術，包括GC-MS、CRDS、紫外熒光、化學發光、GC-PID/FID和紫外吸收法等，可根據企業需求靈活定制，滿足多樣化監測需求。

AMC 1000微污染氣體監測系統檢出限低至0.1ppb，采樣管路覆蓋范圍達200m，支持網格化分析，實現廠區環境實時監控。特殊處理管路有效避免樣品吸附與揮發，結合獨特反吹功能和超標自動留樣至蘇瑪罐驗證，確保數據真實可靠。模塊化設計支持定制化開發，滿足半導體潔凈室及廠區痕量氣體檢測多樣化需求，為高效生產與環境安全保駕護航。


AMC 1000輔助方案：移動推車式AMC監測系統

移動推車式AMC監測系統可搭配不同的分析儀或校準儀，實現半導體潔凈室AMC微污染氣體的移動監測。推車內部搭載大容量電池組，可長時間脫離市電獨立運行，及時檢測排查潔凈室潛在或已有的污染源，可定制觸屏式工控機查看實時監測數據與歷史數據。


典型應用案例：AMC 1000微污染氣體監測系統——助力晶圓廠環境監測與生產優化

國內領先的12英寸晶圓廠采用譜育科技AMC 1000微污染氣體監測系統，實時監測潔凈室氣態分子污染物。該系統通過分布式多點采樣器實現連續多點在線監測，并支持移動推車式靈活操作，實現了對酸類（MA）、堿類（MB）、可凝聚物（MC）、揮發性有機物等ppb級別的精準監測，實時反映污染物濃度變化，為潔凈室環境管理和生產優化提供了精準可靠的數據支持。


AMC 1000微污染氣體監測系統顯著提升了生產良率，降低設備損耗，同時優化運營成本。通過全面保障晶圓制造環境的穩定性，該系統為企業生產提供了高效可靠的技術保障。


聚光科技始終堅持自主創新，持續加大研發投入，專注于攻克技術瓶頸、突破性能極限，為半導體行業提供更高效、更精準的解決方案，助力客戶應對復雜挑戰、實現生產優化。聚光科技將以技術深度賦能行業發展，以應用廣度拓展市場空間，全面提升國產高端科學儀器在高端檢測領域的核心競爭力，為半導體行業高質量發展注入強勁動能，為建設科技強國、加快實現高水平科技自立自強貢獻力量。





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