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芯片制程越先進(jìn)，對(duì)雜質(zhì)的容忍度就越低。

當(dāng)檢測(cè)要求從 ppm（百萬分之一）、ppt（萬億分之一）繼續(xù)向更低濃度推進(jìn)，超痕量金屬檢測(cè)能力，正成為高端制造中的關(guān)鍵一環(huán)。

2026年，聚光科技自主孵化子公司譜育科技正式推出EXPEC 7350S Plus系列三重四極桿電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS/MS）。

譜育科技三重四極桿電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS/MS）核心亮點(diǎn)

該產(chǎn)品依托成熟ICP-MS技術(shù)平臺(tái)，面向半導(dǎo)體及高端制造場(chǎng)景完成專項(xiàng)升級(jí)。

在關(guān)鍵硬件與軟件體系自主可控的基礎(chǔ)上，實(shí)現(xiàn)sub-ppt級(jí)（十萬億分之一）超痕量檢測(cè)能力。

可服務(wù)于12英寸晶圓先進(jìn)制程相關(guān)表面金屬離子檢測(cè)等應(yīng)用場(chǎng)景，為半導(dǎo)體及高端制造領(lǐng)域提供更自主、更可靠的檢測(cè)解決方案。

良率的“隱形殺手”

金屬雜質(zhì)必須被看見

半導(dǎo)體制造中，金屬雜質(zhì)直接影響良率。

隨著集成電路持續(xù)邁向先進(jìn)制程，對(duì)殘留金屬雜質(zhì)控制水平的要求不斷提高，相關(guān)檢測(cè)能力已下探至sub-ppt級(jí)（十萬億分之一），部分場(chǎng)景甚至達(dá)到ppq級(jí)（千萬億分之一）。

檢測(cè)能力不足，可能導(dǎo)致批量晶圓良率下降。長(zhǎng)期以來，相關(guān)高端檢測(cè)設(shè)備市場(chǎng)主要由海外廠商主導(dǎo)。

EXPEC 7350S Plus的推出，體現(xiàn)了國產(chǎn)儀器在超痕量檢測(cè)領(lǐng)域的進(jìn)一步突破。

EXPEC 7350S Plus 不是簡(jiǎn)單性能疊加，而是圍繞半導(dǎo)體超痕量檢測(cè)場(chǎng)景，對(duì)自主可控、檢測(cè)靈敏度、產(chǎn)線適配、定制響應(yīng)四項(xiàng)能力進(jìn)行深度升級(jí)。

全自主可控：核心軟硬件自研，安全更有保障

• 降低對(duì)國外供應(yīng)鏈與技術(shù)體系的依賴

• 圍繞核心部件、關(guān)鍵零部件及軟件體系實(shí)現(xiàn)自主開發(fā)，軟件源代碼自主編寫

• 配備智能水氣防漏報(bào)警系統(tǒng)，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)運(yùn)行參數(shù)，異常時(shí)自動(dòng)預(yù)警并保護(hù)設(shè)備

進(jìn)一步保障設(shè)備運(yùn)行安全、實(shí)驗(yàn)環(huán)境安全與數(shù)據(jù)安全，提升設(shè)備在關(guān)鍵行業(yè)場(chǎng)景中的穩(wěn)定應(yīng)用能力。

sub-ppt級(jí)靈敏度：在十萬億分之一中精準(zhǔn)“捕獲”金屬雜質(zhì)

• 搭載自主研發(fā)的多次偏轉(zhuǎn)離子傳輸系統(tǒng)、雙提取透鏡與新一代離子接口

  
  

• 實(shí)現(xiàn)sub-ppt級(jí)超低檢出限，在超痕量檢測(cè)等關(guān)鍵性能指標(biāo)上具備國際同類產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力

可服務(wù)于12英寸晶圓先進(jìn)制程相關(guān)表面金屬離子檢測(cè)場(chǎng)景，有助于支撐良率提升。

VPD全自動(dòng)聯(lián)用：從實(shí)驗(yàn)室到產(chǎn)線，檢測(cè)流程無縫銜接

• 支持與國內(nèi)外全自動(dòng)VPD系統(tǒng)（氣相分解系統(tǒng)）一體化聯(lián)用

• 適配不同尺寸晶圓（8 英寸、12 英寸）及多種襯底材料（硅、碳化硅等）

• 提供定制化自動(dòng)化檢測(cè)方案，實(shí)現(xiàn)“取樣 → 前處理 → 檢測(cè) → 報(bào)告”全流程自動(dòng)化
  
  

降低人為誤差，提升檢測(cè)通量，幫助客戶從實(shí)驗(yàn)室檢測(cè)向自動(dòng)化、高通量檢測(cè)流程升級(jí)，更好匹配量產(chǎn)節(jié)奏。

敏捷響應(yīng)本土需求：更貼近國內(nèi)應(yīng)用場(chǎng)景

• 更好適配國產(chǎn)化替代需求，持續(xù)提升落地效率

• 依托自主研發(fā)實(shí)力，快速響應(yīng)不同行業(yè)用戶的實(shí)際應(yīng)用需求

• 更貼合本土應(yīng)用場(chǎng)景，提供個(gè)性化合作分析方案
  

縮短問題響應(yīng)周期，滿足國內(nèi)產(chǎn)線快速的技術(shù)迭代與定制化需求。

用在哪里

半導(dǎo)體、高純材料、高端制造

半導(dǎo)體/電子：12英寸晶圓表面金屬離子分析、碳化硅片檢測(cè)

高純材料：超純濕電子化學(xué)品、電子特氣、高純金屬濺射靶材純度分析

其他領(lǐng)域：各類超痕量元素分析及相關(guān)工業(yè)檢測(cè)場(chǎng)景

不止于檢測(cè)

國產(chǎn)高端儀器的使命與進(jìn)階

當(dāng)半導(dǎo)體制造持續(xù)邁向更先進(jìn)工藝，分析檢測(cè)設(shè)備早已不只是實(shí)驗(yàn)室工具，更是先進(jìn)制造體系的重要支撐。

從關(guān)鍵硬件與軟件體系自主開發(fā)，到sub-ppt級(jí)超痕量檢測(cè)能力提升，再到面向VPD聯(lián)用與產(chǎn)線流程的深度適配。

EXPEC 7350S Plus系列三重四極桿電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS/MS），體現(xiàn)了國產(chǎn)高端科學(xué)儀器在半導(dǎo)體關(guān)鍵檢測(cè)場(chǎng)景中的持續(xù)進(jìn)階。

聚光科技將持續(xù)深耕高端分析檢測(cè)技術(shù)，依托ICP-MS系列的技術(shù)積累與產(chǎn)業(yè)化經(jīng)驗(yàn)，為半導(dǎo)體及高端制造等領(lǐng)域提供更可靠、更自主、更高效的分析檢測(cè)解決方案。